事業案内 公開特許情報

1994年公開 公開特許情報

2019年7月19日現在
管理番号 発明の名称 国名
出願番号 出願日 公開番号 公開日 登録日
K217-938 指向性インダクション検層法および装置 日本国
H05149842 93-05-31 H06342081 94-12-13 96-06-27
H0201 半導体デバイス及びその製造方法 大韓民国
94-10400 94-05-12 94-27148 94-12-10 98-07-31
K221-939 スロットアンテナを利用するボアホールレーダ 日本国
H05147046 93-05-26 H06331736 94-12-02 98-11-13
K211-933 高強度マグネシウム基合金及び該合金の製造方法 日本国
H04303952 92-11-13 H63016740 94-11-15
K212-934 高力耐熱アルミニウム基合金及びその製造方法 日本国
H04602444 92-03-18 H62093932 94-10-21
H0008 エッチング方法 日本国
H05-082772 93-03-17 H06275572 94-09-30 03-01-10
P20050007-00JP00 単分散状金超微粒子の製造方法 日本国
H05093515 93-03-16 H60271905 94-09-27 02-04-19
K025-157 極超微粒子状態を用いた電子機能素子の生成方法 日本国
H05045318 93-03-05 H06260724 94-09-16 96-03-28
H0006 ZnSeを主成分としたpn接合の製造方法並びにpn接合デバイスの製造方法 日本国
H05-024999 93-01-21 H06224473 94-08-12 96-06-10
K024-154 キラルなフタロシアニン誘導体の希土類錯体およびその製造方法 日本国
H04320647 92-11-30 H06157535 94-06-03 96-03-28
HN008 化合物結晶のエピタキシャル成長方法及びそのドーピング方法 日本国
H03-202256 91-07-18 H06124900 94-05-06 98-09-04
K200-925 水ガラス繊維の連続的製造方法 日本国
H04222937 92-08-21 H06064935 94-03-08
P05010601-00JP00 水中水噴流を利用する加工方法 日本国
H04203962 92-07-30 H06047667 94-02-22 99-01-22

公開日別公開特許情報

出願日別公開特許情報

問合せ先

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TEL: 022-795-5275
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