事業案内 公開特許情報

1995年公開 公開特許情報

2019年2月21日現在
管理番号 発明の名称 国名
出願番号 出願日 公開番号 公開日 登録日
H0009 半導体装置の製造方法 日本国
H05-298861 93-10-21 H07122555 95-05-12 03-03-14
H0010 半導体装置の製造方法 日本国
H05-298860 93-10-21 H07122517 95-05-12 04-04-09
K026-033 陽電子断層撮影装置におけるγ線吸収体による散乱同時計数測定法及び陽電子断層撮影装置 日本国
H05256985 93-10-14 H07113873 95-05-02 96-07-08
H0011 半導体デバイス及びその製造方法 日本国
H06-098916 94-05-12 H07030073 95-01-31 01-07-19
H0007 静電気除去装置 日本国
H05-024488 93-02-12 H07022530 95-01-24 97-01-09

公開日別公開特許情報

出願日別公開特許情報

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