事業案内 公開特許情報

2000年公開 公開特許情報

2019年2月21日現在
管理番号 発明の名称 国名
出願番号 出願日 公開番号 公開日 登録日
K041-350 フッ化リチウムカルシウムアルミニウム単結晶およびその製造方法 日本国
H11166708 99-06-14 2000-351695 00-12-19 00-07-21
K045-351 フッ化バリウムリチウム単結晶およびその製造方法 日本国
H11167117 99-06-14 2000-351697 00-12-19 01-03-16
K040-349 フッ化物バルク単結晶の製造方法 日本国
H11167116 99-06-14 2000-351696 00-12-19 00-05-12
K058-357 磁気記録媒体の製造方法 日本国
H11118298 99-04-26 2000-311329 00-11-07 02-07-19
K043-357 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法 日本国
H11110363 99-04-19 2000-306228 00-11-02 00-12-22
K224-942 半導体デバイス 日本国
H11082043 99-03-25 2000-277534 00-10-06 03-04-25
K053-345 量子閉じ込め構造を有する素子 日本国
H11067832 99-03-15 2000-269442 00-09-29 03-06-13
K042-354 電界放射陰極およびそれを用いる電磁波発生装置 日本国
H11-042845 99-02-22 2000-243219 00-09-08 00-08-25
K055-348 プラスチック混合廃棄物の処理方法 日本国
H11-041271 99-02-19 2000-239434 00-09-05 99-11-19
K054-347 プラスチック混合廃棄物の処理方法 日本国
H11-041272 99-02-19 2000-239435 00-09-05 02-02-01
K046-355 KNbO3圧電素子 日本国
H11032748 99-02-10 2000-232331 00-08-22 01-06-15
H0035 半導体素子製造方法および処理装置 日本国
H11029841 99-02-08 2000-228440 00-08-15
H0034 半導体素子製造方法 日本国
H11025759 99-02-03 2000-223428 00-08-11
K073-378 積層構造体 日本国
2000-020204 00-01-28 2001-209189 00-08-03
H0038 エッチング液、エッチング方法及び半導体装置の製造方法 日本国
H11219038 99-08-02 2000-195850 00-07-14
K051-343 補強材と安定化材とを兼ねた超伝導磁石の製造方法 日本国
H10339134 98-11-30 2000-164419 00-06-16 01-10-19
K223-941 トランジスタ及び半導体装置 日本国
H10326889 98-11-17 2000-150900 00-05-30 02-02-08
H0026 光信号処理システム 日本国
H10-307312 98-10-28 2000-133867 00-05-12 07-09-21
H0032 不純物拡散方法、半導体装置の製造方法および半導体装置 日本国
H10292489 98-10-14 2000-124146 00-04-28
K052-344 界面活性剤によるナノ粒子のサイズ分別法 日本国
H10293912 98-10-15 2000-117094 00-04-25 02-05-10
H0031 半導体装置、電子機器、及びこれらの動作方法 日本国
H10280286 98-10-01 2000-114546 00-04-21
K044-330 球面回析格子による収束光入射型分光装置 日本国
H10-281057 98-10-02 2000-111405 00-04-21 00-12-22
K050-331 不等厚断面形状部材を曲げ非球面を形成する方法 日本国
H10-281058 98-10-02 2000-111719 00-04-21 01-12-14
K038-341 単分散ナノサイズ遷移金属クラスター集合体およびその製造方法 日本国
H10-280466 98-09-17 2000-096112 00-04-04 00-02-18
K036-092 パリティ回路 日本国
H10257701 98-09-11 2000-091925 00-03-31 99-10-15
H0030 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 日本国
H10251047 98-09-04 2000-082673 00-03-21
P20050051-00JP00 運動素子 日本国
H10205297 98-07-21 2000-041385 00-02-08 08-12-19

公開日別公開特許情報

出願日別公開特許情報

問合せ先

産学連携機構 総合連携推進部 ワンストップサービス窓口

TEL: 022-795-5275
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