事業案内 公開特許情報

2001年公開 公開特許情報

2019年4月24日現在
管理番号 発明の名称 国名
出願番号 出願日 公開番号 公開日 登録日
K190-921 水溶性有機化合物捕捉剤及び捕捉方法 日本国
2000-164040 00-06-01 2001-342152 01-12-11
K074-378 積層構造体の製造方法 日本国
2001-086174 00-01-28 2001-290283 01-10-19
K245-962 ポジトロンCT装置 日本国
2000-095238 00-03-29 2001-281341 01-10-10 09-05-29
K169-901 球面上の弾性波の発生法 日本国
2000-088252 00-03-28 2001-272381 01-10-05 05-12-22
K077-381 アンモニアガスの分解方法 日本国
2000-072196 00-03-15 2001-261302 01-09-26 04-02-13
K079-383 アリルフラン化合物の製造方法 日本国
2000-070419 00-03-14 2001-261667 01-09-26 02-03-01
K080-384 インドール化合物の製造方法 日本国
2000-070596 00-03-14 2001-261641 01-09-26 02-07-05
K189-921 環状フェノール硫化物を用いる希土類金属イオンの分析法 日本国
2000-067832 00-03-10 2001-522573 01-09-21
K059-358 スピン偏極伝導電子生成方法および半導体素子 日本国
2000-061721 00-03-07 2001-250998 01-09-14 02-03-08
K078-382 フラーレン-カルボランリジッドロッドハイブリッド化合物およびその合成方法 日本国
2000-063680 00-03-08 2001-247577 01-09-11 04-04-16
K076-380 一酸化炭素の水素化反応触媒および水素化生成物の製造方法 日本国
2000-064874 00-03-09 2001-246256 01-09-11 03-03-14
K072-377 CMOS多数決回路 日本国
2000-038280 00-02-16 2001-230665 01-08-24 02-04-19
K062-364 核スピン制御素子及びその制御方法 日本国
2000-037362 00-02-16 2001-230404 01-08-24 03-05-16
K071-376 被処理ガスの浄化方法 日本国
2000-015922 00-01-25 2001-205050 01-07-31
K070-375 水素化処理触媒製造用含浸液および水素化処理触媒の製造方法 日本国
2000-009120 00-01-18 2001-198471 01-07-24
P20060320 埋設物検出システム、埋設物検出方法および埋設物検出装置 日本国
H11372906 99-12-28 2001-183470 01-07-06 09-02-06
K069-373 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法 日本国
H11347522 99-12-07 2001-167419 01-06-22
K068-372 慢性肺気腫の発症するリスクを予測するデータを収集する方法 日本国
H11334248 99-11-25 2001-149078 01-06-05 03-11-14
K063-365 サブバンド間発光素子 日本国
2000-060542 00-05-25 2001-144382 01-05-25 03-03-28
P20090003 輸入リンパ管流入部検出方法及び特定細胞同定方法 アメリカ合衆国
13/379,320 10-03-11 2012/107831 01-05-03 15-03-03
K067-371 高密度磁気固定メモリの書き込み方法及び高密度磁気固定メモリ 日本国
H11269885 99-09-24 2001-093273 01-04-06 02-05-31
K064-366 薄膜トランジスタを有するアナログメモリ 日本国
H11252713 99-09-07 2001-077369 01-03-23
K048-370 3次元周期構造体およびその製造方法 日本国
H11247181 99-09-01 2001-077345 01-03-23 01-10-05
K066-369 含フッ素モノマーおよびその合成方法 日本国
H11-250346 99-09-03 2001-072624 01-03-21 05-01-07
K065-368 フラーレン-カルボランリジッドロッドハイブリッド化合物およびその合成方法 日本国
H11-237028 99-08-24 2001-066651 01-03-16 02-06-21
H0037 結晶成長方法及び結晶成長装置 日本国
H11211339 99-07-26 2001-039795 01-02-13
K056-353 温度計測素子、およびこれを用いる温度計測方法 日本国
H11-202422 99-07-16 2001-033317 01-02-09 02-08-02
K057-354 電界放射陰極およびそれを用いる電磁波発生装置 日本国
2000-185569 00-06-21 2001-035535 01-02-09
K047-367 無灰炭の製造方法 日本国
H11-199034 99-07-13 2001-026791 01-01-30 01-06-15
K061-363 ビッター型の低温抵抗磁石の使用方法 日本国
H11192643 99-07-07 2001-023813 01-01-26 05-08-12
K060-362 ドライエッチング方法及びその装置 日本国
H11173678 99-06-21 2001-003185 01-01-09 02-12-13

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出願日別公開特許情報

問合せ先

産学連携機構 総合連携推進部 ワンストップサービス窓口

TEL: 022-795-5275
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