事業案内 公開特許情報

2010年出願 公開特許情報

2019年7月19日現在
管理番号 発明の名称 国名
出願番号 出願日 公開番号 公開日 登録日
P20100281 電気化学計測チップ用電極装置 日本国
2010-292608 10-12-28 2012-141173 12-07-26 12-02-24
P20100280 電気化学計測チップ用電極装置 日本国
2010-292512 10-12-28 2012-141170 12-07-26 12-02-24
P20100284 静電チャック装置 日本国
2010-293764 10-12-28 2012-142413 12-07-26 17-07-21
P20100291 マイクロ波帯昇圧整流回路及びこれを用いた無線タグ装置と無線タグシステム 日本国
2010-293145 10-12-28 2012-142732 12-07-26 15-02-20
P20100279 電気化学計測チップ用電極装置 日本国
2010-292497 10-12-28 2012-141169 12-07-26 12-05-18
P20100069 シンチレータ用発光材料、それを用いたシンチレータ及びそれを用いた放射線検出器並びに放射線検査装置 日本国
2010-291327 10-12-27 2012-136667 12-07-19
P20100299 アルカリ土類金属シリケート蛍光体の製造方法 日本国
2010-288864 10-12-24 2012-136594 12-07-19 14-04-25
P20090335-01 金属フッ化物結晶、真空紫外発光素子及び真空紫外発光シンチレーター 日本国
2011-547600 10-12-22 2011-078243 11-05-09 14-09-12
P20090367-01 バックライトシステムおよびこれを用いた液晶表示装置 日本国
2012-512622 10-12-22 2011-135755 13-07-18
P20090367 バックライトシステムおよびこれを用いた液晶表示装置 アメリカ合衆国
13/643,728 10-12-22 15-09-01
P20110128 スクリーン及び投射システム 日本国
2010-284265 10-12-21 2012-133081 12-07-12 15-01-30
P20100292 金属デポジッションを用いたナノインプリント金型の製造方法 日本国
2010-282292 10-12-17 2012-126113 12-07-05
P20110129 スクリーン及び投射システム 日本国
2010-281341 10-12-17 2012-128308 12-07-05 15-03-13
P20100260 中性子用シンチレータおよび中性子検出器 日本国
2010-281067 10-12-16 2012-126854 12-07-05 15-06-19
P20080481 角膜実質細胞培養用スキャフォールド 日本国
2010-280751 10-12-16 2012-125207 12-07-05
P20100241 圧粉磁心、及び圧粉磁心を用いたインダクタ 日本国
2010-280222 10-12-16 2012-129384 12-07-05 16-09-02
P20090466 ミリ波撮像装置、ミリ撮像システムおよびプログラム 世界知的所有権機関
PCT/JP2010/072578 10-12-15 2011/74614 11-06-23
P20100271 放射線用コメリメーター、放射線検出器、放射線検出方法 日本国
2010-277535 10-12-13 2012-127705 12-07-05
P20090484 照明装置および表示装置 中華人民共和国
201010586181.2 10-12-13 102155374 11-08-17 15-01-07
P20100255 エンドトキシンの濃度検出方法及びエンドトキシン検出用電極チップ 日本国
2010-277329 10-12-13 2012-127695 12-07-05 14-06-20
P20100275 指向性放射線検出器および透明遮蔽材 日本国
2010-277479 10-12-13 2012-127703 12-07-05
P20100259 フッ化物単結晶、真空紫外発光素子及びシンチレーター 日本国
2010-276109 10-12-10 2012-121781 12-06-28 14-01-17
P20100009 疲労強度に優れた低弾性率の脊椎固定用チタン合金製ロッド及びその製造方法 アメリカ合衆国
13/850,913 10-12-10 15-05-19
P20100126 縮退系大環状化合物、並びに、その結晶及び製造方法 日本国
2010-275387 10-12-10 2012-121861 12-06-28 14-11-28
P20100009 疲労強度に優れた低弾性率の脊椎固定用チタン合金製ロッド及びその製造方法 アメリカ合衆国
12/965,424 10-12-10 2011/307014 11-10-15 13-04-23
P20090067 超音波治療装置 ヨーロッパ特許庁
10860405.9 10-12-09 2649953 13-10-16 19-04-24
P20090067 超音波治療装置 ドイツ連邦共和国
10860405.9 10-12-09 2649953 13-10-16 19-04-24
P20090067 超音波治療装置 中華人民共和国
201080070638.2 10-12-09 103260536 13-08-21 16-06-08
P20090067 超音波治療装置 世界知的所有権機関
PCT/JP2010/072171 10-12-09 2012/77219 12-06-14
P20090067 超音波治療装置 アメリカ合衆国
13/990,233 10-12-09 2013/261508 13-10-03
P20100346 車両移動装置の運転方法 日本国
2010-273698 10-12-08 2012-122250 12-06-28 14-10-03
P20100285-01 半導体レーザ素子 日本国
2012-085189 10-12-08 2012-147020 12-08-02 14-05-09
P20100285 半導体レーザ素子 日本国
2010-273359 10-12-08 2012-124301 12-06-28 12-11-22
P20100345 物体移動装置 日本国
2010-273697 10-12-08 2012-121677 12-06-28 14-08-29
P20100193 窒化ホウ素粉末の表面処理方法 日本国
2010-272187 10-12-07 2012-121744 12-06-28 15-04-03
P20090363 積層電極の加工方法 台湾
99142691 10-12-07 201131644 11-09-16
P20090087 皮膚真皮透明化による角膜移植材料調製法 世界知的所有権機関
PCT/JP2010/007119 10-12-07 2011/74208 10-06-23
P20090363-01 積層電極の加工方法 日本国
2011-545208 10-12-07 2011-071028 13-04-22 14-08-01
P20090363 積層電極の加工方法 世界知的所有権機関
PCT/JP2010/071861 10-12-07 2011/71028 11-06-16
P20100191 指示碍子及び絶緑構造物 日本国
2010-271182 10-12-06 2012-124979 12-06-28
P20100055-01 テラヘルツ電磁波検出装置 日本国
2012-546581 10-12-03 2012-073298 14-05-19 15-05-22
P20100055 テラヘルツ電磁波検出装置 ヨーロッパ特許庁
10860400.0 10-12-03 2648290 13-10-09
P20100055 テラヘルツ電磁波検出装置 世界知的所有権機関
PCT/JP2010/007074 10-12-03 2012/73298 12-06-07
P20100225 アレイ型超音波送波器 日本国
2010-269884 10-12-03 2012-115585 12-06-21 14-09-05
P20100055 テラヘルツ電磁波検出装置 アメリカ合衆国
13/991,407 10-12-03 2013/277716 13-10-24 15-04-28
P20100261 水溶性ビスマス化合物とその製造方法 日本国
2010-269603 10-12-02 2012-116805 12-06-21
P20100219 切削工具用硬質被膜及び硬質被膜被覆切削工具 日本国
2010-265978 10-11-30 2012-115923 12-06-21 14-09-12
P20090314 窒化アルミニウム単結晶の製造方法 世界知的所有権機関
PCT/JP2010/071259 10-11-30 2011/65534 11-06-03
P20100218 切削工具用硬質被膜及び硬質被膜被覆切削工具 日本国
2010-265979 10-11-30 2012-115924 12-06-21 14-09-12
P20090314-01 窒化アルミニウム単結晶の製造方法 日本国
2011-543347 10-11-30 2011-065534 13-04-18
P20080115 マグネトロンスパッタ方法及びマグネトロンスパッタ装置 大韓民国
2010-7026894 10-11-30 2011-8307 11-01-26 12-11-15
P20090314 窒化アルミニウム単結晶の製造方法 アメリカ合衆国
13/512,627 10-11-30 2012/240845 12-09-27
P20090314 窒化アルミニウム単結晶の製造方法 ヨーロッパ特許庁
10833378.2 10-11-30 2508656 12-10-10
P20100242-01 処理装置 日本国
2010-263725 10-11-26 2012-117369 12-06-21 14-09-05
P20090263-01 窒化物結晶の製造方法、製造容器および部材 日本国
2010-263564 10-11-26 2011-132119 11-07-07 15-02-06
P20100096 プローブの芯出し方法 日本国
2010-263995 10-11-26 2012-112894 12-06-14
P20100186 GATA阻害剤を有効成分とする有機イオントランスポーター発現増強剤及びGATA発現抑制剤 日本国
2010-263955 10-11-26 2012-111733 12-06-14 15-10-02
P20090263 窒化物結晶の製造方法、製造容器および部材 ヨーロッパ特許庁
10833282.6 10-11-25 2505696 12-10-03
P20090263 窒化物結晶の製造方法、製造容器および部材 アメリカ合衆国
13/481,989 10-11-25 2012/237431 12-09-20 13-12-17
P20090263 窒化物結晶の製造方法、製造容器および部材 中華人民共和国
201080053298.2 10-11-25 15-05-27
P20090263 窒化物結晶の製造方法、製造容器および部材 大韓民国
2012-7013453 10-11-25 2012-127397 12-11-21
P20090433 染色体優性多発性嚢胞腎の判定方法及び予防・治療薬のスクリーニング方法 日本国
2010-261665 10-11-24 2012-112784 12-06-14 15-03-27
P20090434 透析膜の評価方法 日本国
2010-261678 10-11-24 2012-112785 12-06-14
P20090290 低侵襲医療器具 世界知的所有権機関
PCT/JP2010/070828 10-11-22 2011/62287 11-05-26
P20090290 低侵襲医療器具 アメリカ合衆国
13/510,806 10-11-22 2012/232346 12-09-13 15-02-03
P20090290-01 挿入器具および内視鏡 日本国
2011-541989 10-11-22 2011-062287 13-04-11 16-09-16
P20100268 ナノ結晶含有チタン合金およびその製造方法 日本国
2010-260600 10-11-22 2012-111991 12-06-14 13-11-29
P20100133 水分散性のステルスナノ粒子 日本国
2010-259243 10-11-19 2012-111694 12-06-14 14-12-26
P20080018 認知障害改善剤 香港
10110726.8 10-11-18 1144377 11-02-18
P20100239 燃焼実験装置 日本国
2010-257844 10-11-18 2012-108036 12-06-07 14-01-10
P20090288 ヒト型化抗EGFR抗体可変領域の高機能性変異体 フランス
10831507.8 10-11-11 16-01-06
P20090288 ヒト型化抗EGFR抗体可変領域の高機能性変異体 イギリス
10831507.8 10-11-11 16-01-06
P20090288 ヒト型化抗EGFR抗体可変領域の高機能性変異体 ドイツ連邦共和国
10831507.8 10-11-11 16-01-06
P20090288 ヒト型化抗EGFR抗体可変領域の高機能性変異体 アメリカ合衆国
13/510,516 10-11-11 2013/131320 13-05-23 14-12-30
P20090288 ヒト型化抗EGFR抗体可変領域の高機能性変異体 ヨーロッパ特許庁
10831507.8 10-11-11 16-01-06
P20090288-01 ヒト型化抗EGFR抗体可変領域の高機能性変異体 日本国
2011-541902 10-11-11 2011-062112 13-04-04 15-10-09
P20090288 ヒト型化抗EGFR抗体可変領域の高機能性変異体 スイス
10831507.8 10-11-11 16-01-06
P20090329 (仮)表面保護膜、接ガス部材、ガス処理装置及びメカニカルポンプ アメリカ合衆国
13/511,677 10-11-09 2012/273133 12-11-01
P20090329 (仮)表面保護膜、接ガス部材、ガス処理装置及びメカニカルポンプ 大韓民国
2012-7016470 10-11-09 2012-98803 12-09-05
P20090304 調整弁装置 台湾
99138276 10-11-08 14-09-01
P20100237 硫化物蛍光体 日本国
2010-249468 10-11-08 2012-102171 12-05-31 14-04-25
P20100132 コヒーレント光時分割多重信号の復調方式 日本国
2010-247011 10-11-04 2012-100128 12-05-24 14-10-24
P20100057 磁歪力センサ用板状部材の製造方法、磁歪力センサ用リング状部材及び磁歪力センサ用リング状部材の製造方法 日本国
2010-246051 10-11-02 2012-098154 12-05-24 14-11-21
P20090403 照明装置および表示装置 アメリカ合衆国
12/916,906 10-11-01 2011/109663 11-03-12 12-12-11
P20100017 スイッチ装置 日本国
2010-245054 10-11-01 2012-099300 12-05-24 15-02-20
P20100247 TOF質量分析によるHIPIMSスパッタ源のプラズマ解析方法及びその装置 日本国
2010-243309 10-10-29 2012-099226 12-05-24 14-02-21
P20090403 照明装置および表示装置 中華人民共和国
201010527232.4 10-10-29 102072437 11-05-25 13-05-08
P20090304 調整弁装置 中華人民共和国
201080050629.7 10-10-29 102597587 12-07-18
P20090304 調整弁装置 ドイツ連邦共和国
112010004231.4 10-10-29 112010004231 12-12-20
P20090304 調整弁装置 アメリカ合衆国
13/508,448 10-10-29 2012/241023 12-09-27
P20100052 微粒子搬送装置及びこの装置を用いた微粒子の浄化方法 日本国
2010-242718 10-10-28 2012-091925 12-05-17 15-02-06
P20100220 酸窒化物蛍光体とその製造方法 日本国
2010-241094 10-10-27 2012-092233 12-05-17
P20100235 半導体レーザ装置組立体及び半導体光増幅器組立体 日本国
2010-239457 10-10-26 2010-239457 12-05-17 15-03-13
P20100235-01 半導体レーザ装置組立体 日本国
2014-251500 10-10-26 2015-065474 15-04-09 16-01-15
P20100111 金属部材の製造方法および金属部材 世界知的所有権機関
PCT/JP2010/068761 10-10-22 2011/92909 11-08-04
P20090440 金微粒子の製造方法 日本国
2010-237614 10-10-22 2012-087398 12-05-10 14-04-04
P20100236 半導体レーザ装置組立体 日本国
2010-237094 10-10-22 2012-089776 12-05-10 14-10-17
P20100236-01 半導体レーザ装置組立体 日本国
2014-094519 10-10-22 2014-160859 14-09-04 15-12-04
P20100111-01 金属部材の製造方法および金属部材 日本国
2011-551673 10-10-22 2011-092909 13-05-30 15-01-16
P20090293 光装置 アメリカ合衆国
12/910,046 10-10-22 2011/103419 11-05-05
P20100111 金属部材の製造方法および金属部材 アメリカ合衆国
13/574,854 10-10-22 16-03-08
P20090134 強磁性粒子粉末及びその製造法、異方性磁石及びボンド磁石 台湾
99135963 10-10-21 201135760 11-10-16 15-09-01
P20100091-01 バナジウム電池 日本国
2011-537271 10-10-20 2011-049103 13-03-14 14-07-18
P20100091 バナジウム電池 インド
3494/DELNP/2012 10-10-20 22/2014 16-05-30
P20100091-02 バナジウム電池 日本国
2013-206004 10-10-20 2014-017267 14-01-30 16-03-25
P20100091 バナジウム電池 中華人民共和国
201080058340.X 10-10-20 16-01-20
P20100091 バナジウム電池 アメリカ合衆国
13/503,184 10-10-20 2012/301787 12-11-29 16-08-16
P20100091 バナジウム電池 大韓民国
2012-7011416 10-10-20 2012-91177 12-08-17 15-03-02
P20100091 バナジウム電池 世界知的所有権機関
PCT/JP2010/068423 10-10-20 2011/49103 11-04-28
P20090134 強磁性粒子粉末及びその製造法、異方性磁石及びボンド磁石 ドイツ連邦共和国
10824929.3 10-10-19 2492927 12-08-29 18-04-18
P20090134 強磁性粒子粉末及びその製造法、異方性磁石及びボンド磁石 アメリカ合衆国
15/059,906 10-10-19 2016/189836 16-06-30
P20090134 強磁性粒子粉末及びその製造法、異方性磁石及びボンド磁石 アメリカ合衆国
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P20090178 銅合金線材およびその製造方法 世界知的所有権機関
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P20100105-01 有機無機複合粒子、粒子分散液、粒子分散樹脂組成物および有機無機複合粒子の製造方法 日本国
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P20090259-01 磁歪膜、磁歪素子、トルクセンサ、力センサ、圧力センサおよびその製造方法 日本国
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P20100021 評価用補助具 日本国
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P20100105-03 相分離構造体およびその製造方法 日本国
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P20090259 磁歪膜、磁歪素子、トルクセンサ、力センサ、圧力センサおよびその製造方法 ヨーロッパ特許庁
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P20100105-02 相分離構造体およびその製造方法 日本国
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P20090259 磁歪膜、磁歪素子、トルクセンサ、力センサ、圧力センサおよびその製造方法 アメリカ合衆国
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P20100045 X線検出システム及びX線検出方法 日本国
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P20100021-01 評価用補助具 日本国
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P20100039 X線検出システム 日本国
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P20090259 磁歪膜、磁歪素子、トルクセンサ、力センサ、圧力センサおよびその製造方法 世界知的所有権機関
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P20100134 光電変換部材 日本国
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P20090495 体内線量モニタリング装置および方法、および高精度放射線治療治療システム 世界知的所有権機関
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P20080499 コア/シェル磁性粒子およびその製造方法 アメリカ合衆国
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P20080461-01 変異タンパク質の製造方法 日本国
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P20090192 半導体装置及び半導体装置の製造方法 中華人民共和国
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P20090192 半導体装置及び半導体装置の製造方法 大韓民国
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P20090192 半導体装置及び半導体装置の製造方法 アメリカ合衆国
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P20090192 半導体装置及び半導体装置の製造方法 ドイツ連邦共和国
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P20090193 光電変換部材 中華人民共和国
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P20090193 光電変換部材 アメリカ合衆国
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P20090193 光電変換部材 大韓民国
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P20090388 磁性粒子およびその製造方法 日本国
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P20090489 画像入力装置、画像入力方法及び画像入力プログラム 日本国
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P20090109 磁気記録媒体 アメリカ合衆国
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P20090093 被測定物の特性を測定する方法 アメリカ合衆国
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P20090093-01 被測定物の特性を測定する方法 日本国
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P20100062 合金組成物、Fe基ナノ結晶合金及びその製造方法、並びに磁性部品 中華人民共和国
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P20100062-02 合金組成物、Fe基ナノ結晶合金及びその製造方法 日本国
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P20090109 磁気記録媒体 中華人民共和国
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P20100062 合金組成物、Fe基ナノ結晶合金及びその製造方法、並びに磁性部品 世界知的所有権機関
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P20100062 合金組成物、Fe基ナノ結晶合金及びその製造方法、並びに磁性部品 インド
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P20100062 合金組成物、Fe基ナノ結晶合金及びその製造方法、並びに磁性部品 大韓民国
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P20100062 合金組成物、Fe基ナノ結晶合金及びその製造方法、並びに磁性部品 台湾
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P20100062 合金組成物、Fe基ナノ結晶合金及びその製造方法、並びに磁性部品 中華人民共和国
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P20100062 合金組成物、Fe基ナノ結晶合金及びその製造方法、並びに磁性部品 ロシア
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P20080410 プラズマ処理装置 台湾
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P20090174 配線基板プラズマ処理装置及び配線基板の製造方法 大韓民国
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P20100205 ミリ波撮像装置 日本国
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P20090164 超音波顕微鏡 日本国
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P20090174 配線基板プラズマ処理装置及び配線基板の製造方法 アメリカ合衆国
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P20090174 配線基板プラズマ処理装置及び配線基板の製造方法 世界知的所有権機関
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P20100127 処理装置 日本国
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P20090174 配線基板プラズマ処理装置及び配線基板の製造方法 中華人民共和国
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P20100125 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 日本国
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P20100124 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 日本国
2010-160449 10-07-15 2012-022916 12-02-02 14-10-17
P20100123 プラズマ処理装置 日本国
2010-160448 10-07-15 2012-021196 12-02-02 15-01-30
P20080399 半導体装置とその製造方法 台湾
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P20100065 無線通信システムならびに送信装置および受信装置 日本国
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P20100113-01 磁気メモリセル及び磁気ランダムアクセスメモリ 日本国
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P20100112 磁気抵抗効果素子およびそれを用いたランダムアクセスメモリ アメリカ合衆国
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P20100112 磁気抵抗効果素子およびそれを用いたランダムアクセスメモリ 世界知的所有権機関
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P20100112-01 磁気抵抗効果素子およびそれを用いたランダムアクセスメモリ 日本国
2012-523481 10-07-09 2012-004883 13-09-02
P20100113 磁界オフセットを補正した垂直型トンネル磁気抵抗効果素子 とそれを用いた磁気メモリ 世界知的所有権機関
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P20080508 クロロプレン系重合体の製造方法、及びこれにより得られるポリクロロプレンラティックス、接着剤組成物 インド
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P20080508 クロロプレン系重合体の製造方法、及びこれにより得られるポリクロロプレンラティックス、接着剤組成物 ヨーロッパ特許庁
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P20080508 クロロプレン系重合体の製造方法、及びこれにより得られるポリクロロプレンラティックス、接着剤組成物 アメリカ合衆国
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P20080508 クロロプレン系重合体の製造方法、及びこれにより得られるポリクロロプレンラティックス、接着剤組成物 中華人民共和国
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P20080508 クロロプレン系重合体の製造方法、及びこれにより得られるポリクロロプレンラティックス、接着剤組成物 ドイツ連邦共和国
10797171.5 10-07-08 18-01-19
P20090114 高屈折率粉末、その製造方法及び用途 台湾
99122274 10-07-07 201114690 11-05-01
P20090498 窒化物単結晶の製造方法、窒化物単結晶、基板およびデバイス 日本国
2010-153621 10-07-06 2012-017212 12-01-26
P20090082-01 シリコンの精製方法 日本国
2010-153281 10-07-05 2011-032158 11-02-17 14-05-09
M20090003 ほうれいしゃかい 日本国
2010-018056 10-07-05 10-08-06
P20090129 半導体レーザ素子及びその駆動方法、並びに、半導体レーザ装置 中華人民共和国
201010223995.X 10-07-02 101950922 11-01-19
M20090002 豊齢社会 日本国
2010-018055 10-07-02 10-08-06
P20090129 半導体レーザ素子及びその駆動方法、並びに、半導体レーザ装置 アメリカ合衆国
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P20080499-03 磁性粉末の製造方法 日本国
2010-150963 10-07-01 2011-216838 11-10-27 14-10-31
P20080258 代謝解析プログラム、代謝解析装置および代謝解析方法 ヨーロッパ特許庁
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P20090114 高屈折率粉末、その製造方法及び用途 中華人民共和国
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P20100093 半導体光増幅器 日本国
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P20090114 高屈折率粉末、その製造方法及び用途 大韓民国
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P20090114 高屈折率粉末、その製造方法及び用途 世界知的所有権機関
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P20090114 高屈折率粉末、その製造方法及び用途 アメリカ合衆国
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P20100093-01 半導体光増幅器及び半導体レーザ装置組立体並びに半導体光増幅器の位置調整方法 日本国
2014-094520 10-06-30 2014-170958 14-09-18 17-01-27
P20100095 半導体光増幅器の位置合わせ方法及び光出力装置 日本国
2010-149344 10-06-30 2012-015265 12-01-19 14-10-03
P20090446-01 グラフェンの形成方法 日本国
2010-149151 10-06-30 2011-207736 11-10-20
P20090114-01 高屈折率粉末、その製造方法及び用途 日本国
2011-521894 10-06-30 15-03-27
P20080258 代謝解析プログラム、代謝解析装置および代謝解析方法 アメリカ合衆国
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P20090373-01 アナログ・ディジタル変換装置 日本国
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P20090373 アナログ・ディジタル変換装置 日本国
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P20100026 階段昇降式移動車 日本国
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P20090212-01 マイクロ・ナノソリッド利用型半導体洗浄システム 日本国
2010-144729 10-06-25 2011-171691 11-09-01
P20090418 半導体薄膜パターンの製造方法、半導体薄膜パターンおよび結晶性半導体薄膜パターン 日本国
2010-143667 10-06-24 2012-009595 12-01-12
P20090140 固体撮像素子 アメリカ合衆国
13/382,878 10-06-23 2012/112255 12-05-10 13-09-10
P20100087 3次元データ生成装置、生成方法およびプログラム 日本国
2010-142445 10-06-23 2012-008685 12-01-12
P20090140 固体撮像素子 ヨーロッパ特許庁
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P20090140-01 固体撮像素子 日本国
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P20090078 金属ガラス締結ねじ 世界知的所有権機関
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P20090078 金属ガラス締結ねじ 中華人民共和国
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P20090078 金属ガラス締結ねじ 大韓民国
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P20090078 金属ガラス締結ねじ アメリカ合衆国
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P20090366 コレステロールの生合成を抑制するために用いられる組成物 日本国
2010-140927 10-06-21 2012-001523 12-01-05
P20100003-01 歩行解析システム 日本国
2014-120552 10-06-18 2014-208257 14-11-06
P20100068 ZnOシンチレータ及びその製造方法、並びにZnOシンチレータを用いた放射線検出器、放射線検査装置又はα線カメラ 日本国
2010-139269 10-06-18 2012-001662 12-01-05
P20100003 歩行解析システム 日本国
2010-139926 10-06-18 2012-000343 12-01-05 14-08-01
P20100040 変動画像解析方法および変動画像解析システム 日本国
2010-137911 10-06-17 2012-002665 12-01-05
P20090116 成膜方法、前処理装置及び処理システム アメリカ合衆国
13/378,535 10-06-16 2012/135612 12-05-31 14-10-21
P20090116 成膜方法、前処理装置及び処理システム 中華人民共和国
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P20090116 成膜方法、前処理装置及び処理システム 台湾
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P20080489 半導体レーザ素子の駆動方法及び半導体レーザ装置 中華人民共和国
201010196194.9 10-06-11 101854028 10-10-06
P20090452 蛍光体とこの蛍光体を用いた蛍光体含有組成物及び発光装置、並びに画像表示装置及び照明装置 日本国
2010-133970 10-06-11 2011-256340 11-12-22
P20100042 高周波振動圧電素子、超音波センサおよび高周波振動圧電素子の製造方法 日本国
2010-133320 10-06-10 2011-259316 11-12-22 15-02-13
P20100129 呼吸指示プログラム、呼吸指示装置、呼吸指示システム、および呼吸指示処理方法 日本国
2010-133425 10-06-10 2011-255046 11-12-22 14-07-18
P20100009 疲労強度に優れた低弾性率の脊椎固定用チタン合金製ロッド及びその製造方法 日本国
2010-132886 10-06-10 2011-256443 11-12-22 14-08-01
P20100072 減圧処理装置 日本国
2010-132329 10-06-09 2011-256946 11-12-22
P20100010 ピーク送信電力制限方法、及び無線通信システム 日本国
2010-131038 10-06-08 2011-259140 11-12-22 14-02-21
P20090104-01 薄板金属基材上に金属ガラス溶射被膜層が形成された複合材料及びその製造方法 日本国
2010-129606 10-06-07 2011-017080 11-01-27 14-05-30
P20080355 プラズマ処理装置 台湾
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P20100046 磁気記録装置 日本国
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P20090097 積層型ZnO系単結晶シンチレータおよびその製造方法 世界知的所有権機関
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P20090147 ミリ波イメージングセンサ 世界知的所有権機関
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P20090146 ミリ波撮像装置およびプログラム インドネシア
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P20090147 ミリ波イメージングセンサ シンガポール
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P20090147 ミリ波イメージングセンサ アメリカ合衆国
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P20100037 磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ 日本国
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P20090146 ミリ波撮像装置およびプログラム 世界知的所有権機関
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P20090468 静電式エネルギー変換装置 日本国
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P20090102 バックライトシステムおよびこれを用いた液晶表示装置 アメリカ合衆国
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P20090073 シンチレーター アメリカ合衆国
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P20090073 シンチレーター 中華人民共和国
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P20080444 多能性幹細胞からの神経堤細胞群の分化誘導方法 世界知的所有権機関
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P20100008 海藻からのエタノールを生産する方法 日本国
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P20090285-01 輻射伝熱制御膜 日本国
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P20100053 燃料電池セパレータ及びその製造方法 日本国
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P20090101 カーボンナノチューブおよびその製造方法 アメリカ合衆国
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P20090101 カーボンナノチューブおよびその製造方法 中華人民共和国
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P20090015 磁気抵抗効果素子およびそれを用いたランダムアクセスメモリ 世界知的所有権機関
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P20090015-01 磁気抵抗効果素子及びそれを用いたランダムアクセスメモリ 日本国
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P20090015 磁気抵抗効果素子およびそれを用いたランダムアクセスメモリ 台湾
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P20090125-01 ウェット処理装置及びウエット処理方法 日本国
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P20090125 ウェット処理装置 中華人民共和国
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P20100047 液晶表示装置 日本国
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P20090204 キャビテーション発生装置 日本国
2010-120057 10-05-26 2011-245582 11-12-08 14-07-18
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2010-119941 10-05-26 2011-246560 11-12-08
P20100064 ゲームプログラム、ゲーム装置、ゲームシステム、およびゲーム処理方法 日本国
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P20090445 はり構造起歪体および荷重測定方法 日本国
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P20080416 作業支援ロボットシステム 中華人民共和国
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P20080416-04 作業ロボット支援システム 日本国
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P20080416-02 作業支援ロボットシステム 日本国
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P20080416 作業支援ロボットシステム 中華人民共和国
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P20080416 作業支援ロボットシステム ヨーロッパ特許庁
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P20090043-02 シート状触覚センサシステム 台湾
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P20080416-03 作業ロボット支援システム 日本国
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P20080416 作業支援ロボットシステム 世界知的所有権機関
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P20080416 作業支援ロボットシステム 大韓民国
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P20090276 インプリント異常性の指標としてのZDBF2メチル化異常の検査方法 日本国
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P20080408-01 人工多能性幹細胞からの上皮系前駆細胞・幹細胞群及び角膜上皮細胞群の分化誘導方法 日本国
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P20090360 燃料物性決定方法及び ロシア
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P20090360 燃料物性決定方法及び ヨーロッパ特許庁
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P20090360 燃料物性決定方法及び 中華人民共和国
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P20090360 燃料物性決定方法及び ロシア
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P20080408 人工多能性幹細胞からの上皮系前駆細胞・幹細胞群及び角膜上皮細胞群の分化誘導方法 アメリカ合衆国
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P20080408 人工多能性幹細胞からの上皮系前駆細胞・幹細胞群及び角膜上皮細胞群の分化誘導方法 世界知的所有権機関
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P20090360 燃料物性決定方法及び ドイツ連邦共和国
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P20090465 ゲームプログラム、ゲーム装置、ゲームシステム、およびゲーム処理方法 アメリカ合衆国
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P20100033 金属ガラス製品の製造方法および異種材料複合体 日本国
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P20080003 太陽電池およびその製造方法並びにBaSi層の成膜方法 アメリカ合衆国
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P20080003 太陽電池およびその製造方法並びにBaSi層の成膜方法 世界知的所有権機関
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P20100029 原子拡散接合方法 日本国
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P20100028 骨再生材料 日本国
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P20080442-01 インターロイキン―2産生抑制剤 日本国
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P20090048 鋳造用塩中子の製造方法 ヨーロッパ特許庁
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P20090472 中性子用シンチレーターおよび中性子検出器 日本国
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P20100223 生体情報処理プログラム、生体情報処理装置、生体情報処理方法および生体情報処理システム 日本国
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P20090011 トンネル磁気抵抗効果素子,それを用いた磁気メモリセル及びランダムアクセスメモリ 台湾
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P20120015 水素センサおよび水素検出器 日本国
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P20090486 Co基金属ガラス合金、磁心、電磁変換機および時計 日本国
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P20090439 ゲルマニウム単結晶の製造方法 日本国
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P20090056 水分発生用反応炉 台湾
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P20100019 金属加工装置 日本国
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P20090355 換気制御システムおよび換気制御方法 日本国
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P20080101 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 台湾
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P20090381 情報処理プログラム、情報処理装置、情報処理方法および情報処理システム アメリカ合衆国
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P20090380 ゲームプログラム、ゲーム装置、制御方法、およびゲームシステム アメリカ合衆国
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P20090055 電子装置及びその製造方法 アメリカ合衆国
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P20090055 電子装置及びその製造方法 中華人民共和国
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P20080473 ヒト肺組織幹細胞の調製方法及びヒト肺胞上皮細胞への分化誘導方法 アメリカ合衆国
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P20090392 芳香族ポリカーボネートの連続的分解方法およびその装置 日本国
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P20090484 照明装置および表示装置 日本国
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P20060263 神経再生剤 香港
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P20090495 体内線量モニタリング装置および方法、および高精度放射線治療治療システム 日本国
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P20090403 照明装置および表示装置 日本国
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P20090402 照明装置および表示装置 日本国
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P20090496 スペクトル予測方法、スペクトル予測装置、およびプログラム 日本国
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P20090018 ニオブ酸アルカリ金属塩粒子の製造方法、およびニオブ酸アルカリ金属塩粒子 大韓民国
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P20090018 ニオブ酸アルカリ金属塩粒子の製造方法、およびニオブ酸アルカリ金属塩粒子 アメリカ合衆国
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P20090018 ニオブ酸アルカリ金属塩粒子の製造方法、およびニオブ酸アルカリ金属塩粒子 ヨーロッパ特許庁
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P20090018 ニオブ酸アルカリ金属塩粒子の製造方法、およびニオブ酸アルカリ金属塩粒子 フランス
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P20090018 ニオブ酸アルカリ金属塩粒子の製造方法、およびニオブ酸アルカリ金属塩粒子 イギリス
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P20090018 ニオブ酸アルカリ金属塩粒子の製造方法、およびニオブ酸アルカリ金属塩粒子 ドイツ連邦共和国
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P20090017 ニオブ酸アルカリ金属塩粒子の製造方法、およびニオブ酸アルカリ金属塩粒子 中華人民共和国
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P20090017 ニオブ酸アルカリ金属塩粒子の製造方法、およびニオブ酸アルカリ金属塩粒子 大韓民国
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P20090017 ニオブ酸アルカリ金属塩粒子の製造方法、およびニオブ酸アルカリ金属塩粒子 イギリス
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P20080303 固体酸化物型燃料電池及び固体酸化物型燃料電池の製造方法 アメリカ合衆国
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P20100041 赤外線検出センサ 日本国
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P20080511-01 中性子シンチレータ用酸化物結晶及びこれを用いた中性子シンチレータ 日本国
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P20090501 陰極体 日本国
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P20090502 スパッタ成膜方法 日本国
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K262-983 磁気センサ及び磁気記憶装置 アメリカ合衆国
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P20090260 高強度、高弾性率および塑性加工性に優れたNiフリー生体用Co基合金およびステント 日本国
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K262-983-01 磁気センサ及び磁気記憶装置 日本国
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P20090492 合金組成物、Fe基ナノ結晶合金及びその製造方法、並びに磁性部品 日本国
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P20090078-02 金属ガラス締結ねじ 日本国
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P20090007 酸化マンガン膜の形成方法、半導体装置の製造方法および半導体装置 中華人民共和国
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P20090007 酸化マンガン膜の形成方法、半導体装置の製造方法および半導体装置 大韓民国
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P20090007 酸化マンガン膜の形成方法、半導体装置の製造方法および半導体装置 アメリカ合衆国
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P20090007 酸化マンガン膜の形成方法、半導体装置の製造方法および半導体装置 世界知的所有権機関
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P20090243 クリープ変形特性のシュミレーション装置 日本国
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P20080450 粒子線画像検出器 大韓民国
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P20090066 回転マグネットスパッタ装置 世界知的所有権機関
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P20090066 回転マグネットスパッタ装置 大韓民国
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P20090066 回転マグネットスパッタ装置 中華人民共和国
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P20080477 バイ・セクション型半導体レーザ素子及びその製造方法、並びに、バイ・セクション型半導体レーザ素子の駆動方法 アメリカ合衆国
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P20090281 円柱試料圧縮過程の摩擦係数の決定方法 日本国
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P20080502 調整弁装置 台湾
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P20100004 電子部品用チタン銅及びこれを用いた電子部品 日本国
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P20080414-01 フェライトの特性評価方法 アメリカ合衆国
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P20090408 接合方法及び水晶素子 日本国
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P20090003-01 輸入リンパ管流入部検出方法及び特定細胞同定方法 日本国
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P20090003 輸入リンパ管流入部検出方法及び特定細胞同定方法 アメリカ合衆国
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P20090395 光制御シート 日本国
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P20100011 三次元集積回路の製造方法及び装置 台湾
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P20100011 三次元集積回路の製造方法及び装置 アメリカ合衆国
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P20100011 三次元集積回路の製造方法及び装置 大韓民国
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P20080502 調整弁装置 世界知的所有権機関
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P20090500 希土類元素の浸出方法 日本国
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P20080502 調整弁装置 アメリカ合衆国
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P20080502 調整弁装置 中華人民共和国
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P20090454 バラスト水処理と該設置を使用したバラスト水無害化処理システム アメリカ合衆国
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P20090432 モードロック半導体レーザ素子及びその駆動方法 日本国
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P20090428 自励発振型半導体レーザ素子及びその駆動方法 日本国
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P20090454 バラスト水処理と該設置を使用したバラスト水無害化処理システム スウェーデン
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P20090454 バラスト水処理と該設置を使用したバラスト水無害化処理システム オランダ
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P20090454 バラスト水処理と該設置を使用したバラスト水無害化処理システム ドイツ連邦共和国
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P20090454 バラスト水処理と該設置を使用したバラスト水無害化処理システム デンマーク
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P20090410 中空白金コバルト合金触媒粒子およびその製造方法 日本国
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P20090454-01 バラスト水処理装置と該装置を使用したバラスト水無害化処理システム及びその方法 日本国
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P20090454 バラスト水処理と該設置を使用したバラスト水無害化処理システム ヨーロッパ特許庁
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P20090454 バラスト水処理と該設置を使用したバラスト水無害化処理システム 世界知的所有権機関
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P20090430 水熱還元プロセスによるコバルトナノ粒子の合成法 日本国
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P20090432-01 モードロック半導体レーザ素子及び半導体レーザー装置組立体 日本国
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P20090475 電気光学装置及び電子機器 日本国
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P20080340-02 CBI受容体アゴニスト 日本国
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P20090476 電気光学装置及び電子機器 日本国
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P20090317 半導体光源 日本国
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P20090318 波長切り替え半導体光源 日本国
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P20090474 電気光学装置及び電子機器 日本国
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P20090270 ナノコンポジット並びにその製造方法 日本国
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P20070194 半導体装置及びその製造方法 大韓民国
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P20090106 電子装置用配線基板、その製造方法及びタッチパネル 世界知的所有権機関
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10755725.8 10-01-04 16-09-07
P20080357 LH型ダイアボディ型二重特異性抗体 アメリカ合衆国
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