東北大学 研究シーズ集

LANGUAGE

高精度デバイスプロセス技術と新規イメージセンサ開発

更新:2020-06-16
前の画像
次の画像

特徴・独自性

クリーンルーム・ユーティリティのレベルから、材料、装置、プロセス、デバイス、回路、実装、信号処理、計測・評価、信頼性に至るまでの研究に総合的に取り組みつつ、それらを基盤として、イメージセンサの極限性能の追及を行っています。
今までに、100 万個を超えるトランジスタ性能の高精度高速計測技術(2004 年)、明暗差5 ケタの単露光撮影を可能とした広ダイナミックレンジCMOS イメージセンサ(2008 年)、毎秒1000 万コマの撮影が行える高速CMOS イメージセンサ(2012 年)などの実用化に成功しています。

産学連携の可能性 (想定される用途・業界)

デバイスメーカの量産ラインと相互乗り入れ可能な清浄度を有する200mmウェーハのシリコンデバイス流動が行えます。また、現有するクリーンルーム施設設備を利用した要素プロセス検討、高度な各種分析評価が行えます。新規イメージセンサの開発に取り組むことができます。

研究者

工学研究科 技術社会システム専攻

須川 成利 教授 
博士(工学)

SUGAWA, Shigetoshi, Professor

キーワード

一覧へ