東北大学 研究シーズ集

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高精度デバイスプロセス技術と新規イメージセンサ開発

更新:2018-12-12
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特徴・独自性
クリーンルーム・ユーティリティのレベルから、材料、装置、プロセス、デバイス、回路、実装、信号処理、計測・評価、信頼性に至るまでの研究に総合的に取り組みつつ、それらを基盤として、イメージセンサの極限性能の追及を行っています。
今までに、100万個を超えるトランジスタ性能の高精度高速計測技術(2004年)、明暗差5ケタの単露光撮影を可能とした広ダイナミックレンジCMOSイメージセンサ(2008年)、毎秒1000万コマの撮影が行える高速CMOSイメージセンサ(2012年)などの実用化に成功しています。

産学連携の可能性(想定される用途・業界)
デバイスメーカの量産ラインと相互乗り入れ可能な清浄度を有する200mmウェーハのシリコンデバイス流動が行えます。また、現有するクリーンルーム施設設備を利用した要素プロセス検討、高度な各種分析評価が行えます。新規イメージセンサの開発に取り組むことができます。

研究者

工学研究科 技術社会システム専攻

須川 成利 教授 
博士(工学)

SUGAWA, Shigetoshi, Professor

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