高精度デバイスプロセス技術と新規イメージセンサ開発
更新:2020/06/16
- 特徴・独自性
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- クリーンルーム・ユーティリティのレベルから、材料、装置、プロセス、デバイス、回路、実装、信号処理、計測・評価、信頼性に至るまでの研究に総合的に取り組みつつ、それらを基盤として、イメージセンサの極限性能の追及を行っています。
- 今までに、100 万個を超えるトランジスタ性能の高精度高速計測技術(2004 年)、明暗差5 ケタの単露光撮影を可能とした広ダイナミックレンジCMOS イメージセンサ(2008 年)、毎秒1000 万コマの撮影が行える高速CMOS イメージセンサ(2012 年)などの実用化に成功しています。
- 実用化イメージ
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デバイスメーカの量産ラインと相互乗り入れ可能な清浄度を有する200mmウェーハのシリコンデバイス流動が行えます。また、現有するクリーンルーム施設設備を利用した要素プロセス検討、高度な各種分析評価が行えます。新規イメージセンサの開発に取り組むことができます。
- キーワード
研究者
未来科学技術共同研究センター
開発研究部
クリーンルーム整備共用化の推進と半導体製造技術・センサ技術の開発
須川 成利 教授
博士(工学)(東北大学)/理学修士(東京工業大学)
Shigetoshi Sugawa, Professor