東北大学 研究シーズ集

LANGUAGE

原子拡散接合法(新しい室温接合技術)とその応用

更新:2022-06-13
前の画像
次の画像

特徴・独自性

原子拡散接合法(Atomic Diffusion Bonding, ADB)は、同種・異種のウエハ等を室温で接合する、我々が提案した新しい技術です。標準的なADBは、超高真空中で薄い金属膜を使って接合する技術ですが、最近、酸化膜や窒化膜を使ったADB開発にも成功し、接合界面の機能を更に向上させました。また、Au膜等を用いた大気中接合は、利便性が高く、優れた熱伝導性等を実現できます。

産学連携の可能性 (想定される用途・業界)

新しい電子デバイス、光学デバイス、パワーデバイス、MEMS、ポリマー等の有機系デバイスの形成や、精密機器部品等への展開が期待され、一部は実際のデバイス形成技術として既に利用されています。

研究者

学際科学フロンティア研究所 先端学際基幹研究部 情報・システム研究領域

島津 武仁 教授 
工学博士

SHIMATSU Takehito, Professor

キーワード

関連情報

[1] T. Shimatsu and M. Uomoto, J. Vac. Sci. Technol., B 28, 705 (2010).
[2] T. Shimatsu and M. Uomoto, ECS Transactions, vol. 33, no. 4, 61 (2010).
[3] T. Shimatsu and M. Uomoto, ECS Transactions vol. 64, no. 5, 317(2014).
一覧へ