原子拡散接合法（新しい室温接合技術）とその応用
更新：2022-06-13
特徴・独自性
原子拡散接合法（Atomic Diffusion Bonding, ADB）は、同種・異種のウエハ等を室温で接合する、我々が提案した新しい技術です。標準的なADBは、超高真空中で薄い金属膜を使って接合する技術ですが、最近、酸化膜や窒化膜を使ったADB開発にも成功し、接合界面の機能を更に向上させました。また、Au膜等を用いた大気中接合は、利便性が高く、優れた熱伝導性等を実現できます。産学連携の可能性 （想定される用途・業界）
新しい電子デバイス、光学デバイス、パワーデバイス、MEMS、ポリマー等の有機系デバイスの形成や、精密機器部品等への展開が期待され、一部は実際のデバイス形成技術として既に利用されています。研究者
学際科学フロンティア研究所 先端学際基幹研究部 情報・システム研究領域
島津 武仁
教授
工学博士
SHIMATSU Takehito, Professor
キーワード
関連情報
[2] T. Shimatsu and M. Uomoto, ECS Transactions, vol. 33, no. 4, 61 (2010).
[3] T. Shimatsu and M. Uomoto, ECS Transactions vol. 64, no. 5, 317(2014).
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