固液界面真空プロセスの開発とその応用


更新:2025/07/28
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特徴・独自性

wet系プロセスの利点を真空プロセスに取り入れた次世代の半導体プロセスへの応用開発、有機半導体の新しい精製技術の開発、イオン液体を介した蒸着法による再結晶が困難な有機化合物の単結晶の試作などに取り組んでいます。

実用化イメージ

wet系プロセスの利点を真空プロセスに取り入れた次世代の半導体プロセスへの応用開発、有機半導体の新しい精製技術の開発,イオン液体を介した蒸着法による再結晶が困難な有機化合物の単結晶の試作など。

キーワード

研究者

大学院工学研究科

松本 祐司 教授 
修士(理学)(東京大学)/博士(理学)(東京大学)

Yuji Matsumoto, Professor