高い空隙率をもつ多孔質SiCを簡便に作製


更新:2024/01/22
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概要

炭化ケイ素のフラクタル多孔体
https://www.t-technoarch.co.jp/data/anken/T21-019.pdf

従来技術との比較

SiCの多孔質化には従来微細加工などが用いられてきた。本発明はSiCフラクタル多孔体をバルクで合成する手法を提供する。

特徴・独自性
  • Mg蒸気でシリコーン樹脂を還元することで、SiC多孔体を形成
  • フラクタル構造を持つ階層的な多孔体が形成される
  • 従来の微細加工では困難だった表面等に形成が可能
実用化イメージ

耐熱性のあるファインセラミクス多孔体として利用可能。

キーワード

研究者

高等研究機構材料科学高等研究所
デバイス・システムグループ

藪 浩 教授 
博士(理学)(北海道大学)

Hiroshi Yabu, Professor