薄膜・界面に発現する多様な物性の開拓と応用展開
更新：2020-06-16
特徴・独自性
真空プロセスを介した薄膜化技術を用いて各種物質の薄膜化や界面形成を行い、それら試料における機能の探索や物性開拓の基礎研究を行っています。新しい物質群の薄膜や界面の形成は工学的な側面から将来的な利用に欠かせません。また、薄膜や界面で発現する物性を機能として利用しようとする際、理学的な側面で理解を進めることも大切と考えています。そうした多角的な視野で薄膜と界面を活用する素子の開発に取り組んでいます。産学連携の可能性 （想定される用途・業界）
最近では、磁気素子、半導体接合素子、超伝導接合素子、トポロジカル物質群の薄膜化などの研究を進めていますので、それらに関連する素子開発の共同研究。研究者
金属材料研究所 材料物性研究部 低温物理学研究部門
塚﨑 敦
教授
TSUKAZAKI Atsushi, Professor
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