ナノインプリントリソグラフィによる先進光機能材料のナノファブリケーション
更新：2020-06-16
特徴・独自性
ナノインプリント技術は、パターンサイズとデバイス面積を広範囲にカバーでき、産業界に向いた量産性に優れるナノファブリケーション法として注目されています。当研究グループは、単分子膜工学を推進し、界面機能分子制御の学理の追求と実学応用を進めています。離型分子層、密着分子層、偏在分子層を設計した光硬化性樹脂を研究し、ナノインプリントリソグラフィによる半導体、金属、無機酸化物の超微細加工に挑戦しています。産学連携の可能性 （想定される用途・業界）
透明導電膜、光導波路、メタマテリアル等の先進光機能材料に関する研究成果を発表しました。材料、機械、マスク、デバイスメーカーと連携し、日本のものづくりの強化に貢献します。研究者
多元物質科学研究所 附属マテリアル・計測ハイブリッド研究センター 光機能材料化学研究分野
中川 勝
教授
工学博士
NAKAGAWA Masaru, Professor
キーワード
関連情報
"Selection of diacrylate monomers for sub-15 nm ultraviolet nanoimprinting by resonance shear measurement"
S. Ito, M. Kasuya, K. Kawasaki, R. Washiya, Y. Simazaki, A. Miyauchi, K. Kurihara, M. Nakagawa, Langmuir, 34, 9366 (2018)
"Nanometer-resolved fluidity of an oleophilic monomer between silica surfaces modified with fluorinated monolayers for nanoimprinting"
S. Ito, M. Kasuya, K. Kurihara, M. Nakagawa, ACS Appl. Mater. Interfaces, 9, 6591 (2017)
"Selection of di(meth)acrylate monomers for low pollution of fluorinated mold surfaces in ultraviolet nanoimprint lithography"
M. Nakagawa, K. Kobayashi, A. N. Hattori, S. Ito, N. Hiroshiba, S. Kubo, H. Tanaka, Langmuir, 31, 4188 (2015)
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