nm~µmサイズが混在しパターンの粗密がある構造体を精密に製造可能!
更新:2024/01/23
- 概要
モールドエッジにバリが発生せず、均一な残膜が得られる光ナノインプリント方法
https://www.t-technoarch.co.jp/data/anken/T19-159.pdf- 従来技術との比較
スピン塗布膜への光型成形では、モールド(型)の側壁の汚染が繰り返し利用を妨げます。所定量の液量を印刷液滴の配置数で規定できるので、モールド外周部への光硬化性液体の回り込みを防ぐことができます。
- 特徴・独自性
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- サブピコリットルの定形液滴を印刷配置できる孔版印刷です
- 孔版印刷の版はレーザー加工で作製するため従来のような印刷欠陥がありません
- 膜厚10nmから光硬化膜を所定位置に形成できます
- 印刷配置を制御できるので、型表面にあるパターン密度の粗密に対応することができます
- 実用化イメージ
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ナノ構造オプティクス、平面レンズ、細胞培養シート、など表面への樹脂ナノパターンの付与、樹脂マスクを利用したリソグラフィ加工に用いることができます
- キーワード
研究者
多元物質科学研究所
附属マテリアル・計測ハイブリッド研究センター
光機能材料化学研究分野
中川 勝 教授
博士(工学)(上智大学)/修士(工学)(上智大学)
Masaru Nakagawa, Professor